Wissen fraktionierte CO2-Laser-Maschine Wie beeinflusst die Anpassung des Dot Pitch bei fraktionierten CO2-Lasern die Behandlungssicherheit? Ein Experte-Leitfaden
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Technisches Team · Belislaser

Aktualisiert vor 2 Wochen

Wie beeinflusst die Anpassung des Dot Pitch bei fraktionierten CO2-Lasern die Behandlungssicherheit? Ein Experte-Leitfaden


Die Anpassung des Dot Pitch steuert direkt die Dichte der Laserinduzierten Verletzung auf der Haut. Durch Erhöhung des Dot Pitch – des physischen Abstands zwischen den Mikro-Laserlöchern – erhalten Sie mehr unbehandelte „Brücken“-Haut, was den Heilungsprozess beschleunigt und das Risiko von Nebenwirkungen erheblich reduziert.

Kernbotschaft Die Anpassung des Dot Pitch ist im Grunde eine Übung im Ausgleich zwischen Gewebeschädigung und biologischer Reparatur. Ein größerer Pitch lässt mehr gesundes Gewebe intakt, das als Heilungsreservoir dient, wodurch das Risiko einer postinflammatorischen Hyperpigmentierung (PIH) drastisch reduziert und die Erholungszeit verkürzt wird.

Die Mechanik der Gewebeinteraktion

Definition des Dot Pitch

Bei der fraktionierten CO2-Lasertherapie bezieht sich der Dot Pitch auf den spezifischen physischen Abstand zwischen den vom Laser erzeugten mikroskopischen Kanälen.

Diese Einstellung bestimmt das Verhältnis von behandeltem Gewebe (Ablation) zu unbehandeltem Gewebe (gesunde Haut).

Der „Brücken“-Effekt

Der primäre Sicherheitsmechanismus von fraktionierten Lasern beruht auf der unbehandelten Haut, die zwischen den Laserpunkten verbleibt.

Dieses gesunde Gewebe fungiert als „Brücke“ oder biologisches Reservoir. Es liefert die notwendigen Zellen und die strukturelle Unterstützung, um die geschädigten Bereiche schnell zu regenerieren.

Auswirkungen auf Sicherheit und Erholung

Beschleunigung der Wundheilung

Wenn der Dot Pitch erhöht wird (größerer Abstand), bleibt ein größerer Teil der Hautoberfläche intakt.

Dies maximiert das verfügbare Reservoir an gesunden Zellen, was eine schnellere Reepithelisierung der Mikrokanäle ermöglicht. Folglich erfahren Patienten eine deutlich reduzierte Ausfallzeit.

Reduzierung von Pigmentierungsrisiken

Aus Sicherheitsgründen ist der Dot Pitch die entscheidende Variable bei der Behandlung von Patienten mit dunkleren Hauttönen.

Ein engerer Abstand erzeugt eine höhere thermische Belastung, die Melanozyten zur Überproduktion von Pigmenten anregen kann. Durch Erhöhung des Pitches verteilen Kliniker die thermische Energie spärlicher und senken so effektiv das Risiko einer postinflammatorischen Hyperpigmentierung (PIH).

Verständnis der Kompromisse

Dichte vs. Erholung

Während ein größerer Dot Pitch die Sicherheit verbessert, reduziert er inhärent die Dichte des Behandlungsbereichs.

Kliniker müssen erkennen, dass „sicherere“ Einstellungen (größerer Pitch) pro Durchgang weniger Fläche behandeln. Dies kann mehr Behandlungssitzungen erfordern, um das gleiche kumulative Ergebnis wie bei einer Einstellung mit hoher Dichte zu erzielen.

Der Fall für engeren Abstand

Umgekehrt erzeugt die Verringerung des Dot Pitch (z. B. auf 0,6 mm) ein intensiveres Netzwerk von Mikrokanälen.

Diese erhöhte Dichte ist vorteilhaft für spezifische Ziele, wie die Maximierung der Medikamentendurchdringung oder die Behandlung dicker, lichenifizierter Haut, die mit Erkrankungen wie chronischem Ekzem verbunden ist. Diese erhöhte Wirksamkeit geht jedoch auf Kosten höherer thermischer Schäden und einer langsameren Erholung.

Die richtige Wahl für Ihr Ziel treffen

Um klinische Ergebnisse zu optimieren, müssen Sie den Dot Pitch basierend auf der spezifischen biologischen Kapazität der Haut des Patienten und der gewünschten Behandlungsintensität anpassen.

  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf Patientensicherheit liegt (dunklere Haut): Erhöhen Sie den Dot Pitch, um die unbehandelte Gewebebrücke zu maximieren und den thermischen Auslöser für Hyperpigmentierung zu minimieren.
  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf schneller Erholung liegt: Wählen Sie einen größeren Dot Pitch, um sicherzustellen, dass ein größeres Reservoir an gesundem Gewebe für eine schnellere Wundheilung zur Verfügung steht.
  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf Medikamentenabgabe oder Narbenremodeling liegt: Verringern Sie den Dot Pitch, um ein dichteres Netzwerk von Kanälen zu schaffen, und akzeptieren Sie dafür eine längere Erholungszeit für eine tiefere Sättigung.

Die Beherrschung des Dot Pitch ermöglicht es Ihnen, die feine Linie zwischen aggressiver Behandlung und der natürlichen Heilungsfähigkeit der Haut anzupassen.

Zusammenfassungstabelle:

Einstellung Anpassung Unbehandeltes Gewebe „Brücke“ Heilungsgeschwindigkeit Risiko von PIH Behandlungsintensität
Erhöhter Dot Pitch (Breit) Größeres Reservoir Schnellere Erholung Deutlich niedriger Konservativ/Sicherheitsorientiert
Verringerter Dot Pitch (Eng) Kleineres Reservoir Langsamere Erholung Höhere thermische Belastung Aggressiv/Hohe Dichte

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Referenzen

  1. Abd El‐Aziz Ibrahim El‐Taweel, Ahmed Rihan. Fractional CO2 laser in the treatment of atrophic scars. DOI: 10.21608/sjou.2016.31697

Dieser Artikel basiert auch auf technischen Informationen von Belislaser Wissensdatenbank .

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